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x光鍍層測厚儀

簡要描述:x光鍍層測厚儀
X光譜鍍層測厚儀是一款利用X射線熒光原理精準測量鍍層厚度的專業(yè)設備。它通過激發(fā)鍍層元素產生特征X射線,分析其強度來確定厚度,非破壞性檢測,操作便捷。適用于電鍍、涂裝等行業(yè),能快速、準確測量單層或多層鍍層厚度,為質量控制提供可靠數(shù)據(jù),助力提升產品性能與品質穩(wěn)定性。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-08-20
  • 訪  問  量:235

詳細介紹

x光鍍層測厚儀

X光譜鍍層測厚儀:精準測量,賦能多元工業(yè)檢測

X光譜鍍層測厚儀是一款基于*X射線熒光光譜分析技術的高精度檢測設備,廣泛應用于電鍍、涂裝、半導體、五金制造等眾多行業(yè),為鍍層厚度的精準測量提供了可靠解決方案。

工作原理與核心優(yōu)勢

該設備的工作原理基于X射線與物質相互作用產生的熒光效應。當高能X射線照射到樣品表面時,鍍層中的元素被激發(fā),釋放出具有特定能量的二次X射線,即特征X射線。通過精確分析這些特征X射線的能量和強度,設備能夠準確計算出鍍層的厚度。其核心優(yōu)勢顯著,非破壞性檢測是其一大亮點,無需切割或損壞樣品,即可獲取厚度數(shù)據(jù),保留了樣品的完整性,尤其適用于對珍貴或樣品的檢測。同時,測量速度快,能在短時間內完成單點或多點測量,大大提高了檢測效率,滿足大規(guī)模生產的質量控制需求。

多元功能與精準測量

X光譜鍍層測厚儀具備強大的功能,可測量單層、多層以及合金鍍層的厚度,還能分析鍍層的成分。其測量范圍廣泛,從納米級到毫米級的鍍層厚度均可精準測量,精度高達±0.01μm,確保了測量結果的準確性和可靠性。設備配備了直觀的操作界面和智能化的軟件系統(tǒng),操作人員無需具備深厚的專業(yè)知識,經(jīng)過簡單培訓即可輕松上手。軟件還具備數(shù)據(jù)存儲、分析和報告生成功能,方便用戶對測量數(shù)據(jù)進行管理和追溯。

適應多樣環(huán)境與可靠保障

在適應環(huán)境方面,該設備表現(xiàn)出色,能夠在不同的溫度、濕度和粉塵環(huán)境下穩(wěn)定工作,適用于車間、實驗室等多種場所。此外,設備采用了高品質的X射線管和探測器,具有較長的使用壽命和良好的穩(wěn)定性,減少了設備的維護成本和停機時間。同時,嚴格的安全防護設計,有效防止了X射線泄漏,保障了操作人員的安全。

X光譜鍍層測厚儀以其*的技術、的性能和便捷的操作,成為工業(yè)生產中鍍層厚度檢測的理想選擇,為提升產品質量、優(yōu)化生產工藝提供了有力支持。

以下是深圳市天創(chuàng)美科技有限公司銷售的X熒光光譜儀測試電鍍鍍層的儀器詳細介紹

鍍層檢測:

常見金屬鍍層有:

 鍍層

 

基體

Ni

Ni-P

Ti

Cu

Sn

Sn-Pb

Zn

Cr

Au

Zn-Ni

Ag

Pd

Rh

Al

Cu


Zn


Fe

SUS

 

單層厚度范圍:

金鍍層0-8um,

鉻鍍層0-15um,

其余一般為0-30um以內,

可最小測量達0.001um。

多層厚度范圍:

Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um      Ni分析厚度:0-30um

Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um      Ni分析厚度:0-30um

Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um       Ni分析厚度:0-30um

鍍層層數(shù)為1-6層

鍍層精度相對差值一般<5%。

鍍層成分含量:Sn-Pb合金成分分析;Zn-Ni合金成分分析。

鍍層分析優(yōu)勢:分析PCB金手指最小尺寸可達0.2mm

單層分析精度,以Ni舉例:(相對差值)

 Ni層厚度(um)

保證精度

<1.0um

<5%

1.0-5.0um

<3%

5.0-10um

<3%

10-20um

<3%

>20.0um

<3%

元素成分分析:

鍍液分析,目前常見鍍液元素分析有:金、銀、錫、銅、鎳、鉻、鋅。

ROHS 和無鹵檢測,高性能SDD探測器可以檢測無鹵,實現(xiàn)鍍層與環(huán)保一機多用。

金屬成分分析,在檢測ROHS同時可檢測金屬中其他各元素成分含量。

檢測精度:

Cr,Cd,Hg,Cu, Zn, Fe, Ni, Pb, Mn, W, Au, Ag, Sn等重金屬

檢測限達1ppm。

對這些金屬測試分析穩(wěn)定的讀取允許差值本儀器已達到下列標準:

A. 檢測含量大于5%的元素穩(wěn)定的測試讀取相對差值小于1%

B. 檢測含量在0.5~5%的元素穩(wěn)定的測試讀取相對差值小于2%

C. 檢測含量在0.1~0.5%的元素穩(wěn)定的測試讀取相對差值小于5%

D. 檢測含量低于0.1%的元素測試讀取相對差值變化率小于10%

測量精度:

1)精度(單層):

                              測厚儀的檢測精度表

Ni層厚度(um)

精度

<1.0um

<5%

1.0-5.0um

<3%

5.0-10um

<3%

10-20um

<3%

>20.0um

<3%

    測試方法: 在相同的操作條件下,對同一標準樣板進行5次檢測,檢測到的平均數(shù)據(jù)與標樣板的實際數(shù)據(jù)作比較。檢測精度為檢測平均值與標準樣片實際值之差(平均誤差)

2)兩層及以上:

  兩層及以上的首層精度符合單層的測試結果,但是第二層以上比較復雜,要根據(jù)上面一層的厚度來決定。在一層厚度小于2um時,一層和二層的測試精度基本符合單層的精度,參照如下的測試報告 一層金標樣厚度0.101um,第二層鎳的標樣厚度為4.52um。

    一層厚度在2~5um時會大大降低第二層的和第三層的測試精度,第二層的誤差率會在5~10%,第三層的誤差率小于15%。

重復性:

保證重復性值:±5%

    重復性的檢測應在儀器校準后: 在相同的操作條件下,使用相同的檢測樣板做連續(xù)重復檢測,連續(xù)測量必須在同一檢測點位置使用一同樣片間隔60秒,測量一共進行10次,每次測量值與10次平均值進行對比。

重復性=平均誤差÷平均值×100%.

報告打印:

可以PDF,Excel格式輸出報告,歷史數(shù)據(jù)查詢方便

安全使用,維護與保養(yǎng)

由于儀器非常精密,未經(jīng)允許情況請不要打開儀器外殼,不要對X射線源和探測器進行改變,由用戶自身原因造成儀器損壞本公司將不負責任。

儀器安裝一定要平穩(wěn),儀器后面離墻距離不得小于30厘米,必須使用標準的220V交流電,電壓不穩(wěn)情況要配備穩(wěn)壓電源,插座必須接地良好,由用戶電源不合乎要求造成損失由用戶負責。

請不要用濕的手觸摸電源部分,帶水的手也不要碰儀器外殼以免發(fā)生觸電。

進行測量時,因為高電壓流至X射線源,儀器運行時,不要嘗試打開或觸摸蓋子。由于高電壓源必須通過自動運行或者遵循用戶指南中止。

儀器環(huán)境要求:儀器使用環(huán)境需清潔,溫度適宜15℃~30℃,濕度80%,電源:AC: 220V ±5V。

以上細節(jié)均有可能造成無法預測后果,買方應予以基本遵守。



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